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气相沉积炉设计

时间:2021-12-2 17:02:00 来源:http://www.ejderkapani.com/news730507.html

  气相沉积炉是利用了加热离子体激励或光辐射等方法,让气态的或者蒸汽状态的化学物质发生反应,并以原子态沉积在适当的位置的衬底上。从而形成了所需要的固态薄膜或是涂层的过程。

  气相沉积炉反应室的压力、气体的流动速率、晶片的温度等反应中间起的作用都是沉积参数的变化范围,所以考虑到沉积薄膜中的变数、以及沉积速率决定着反应室的产出量,反应生成的膜不仅会沉积在晶片上,也会沉积在反应室的其他部件上,所以对反应室进行彻底清洗的程度也是重要。

  气相沉积炉是传统的制备薄膜的技术,它的原理就是利用气态的先驱反应物,通过原子、分子间的化学反应,在晶片上形成薄膜。气相沉积能够生产出具备高质量高纯度以及高强度等优点的材料,因此在半导体行业很受欢迎。



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